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产品资料
全自动化等离子系统
简介：

Trion创建于1989年,是一家反应离子刻蚀与沉积系统制造商 Trion为化合物半导体、MEMS（微机电系统）、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品占地面积小、成本低，可靠稳定，应用于化学气相沉积PECVD工艺。
产品详情

Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。

Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm尺寸)进行处理。它还具有多尺寸批处理功能。价格适宜且占地面积小。


刻蚀应用：
砷化镓、砷化铝镓、氮化镓、磷化铟、铝、硅化物、铬以及其他要求腐蚀性和非腐蚀性化学刻蚀的材料。


沉积应用：
二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各种材料。

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